GUDLOX GLOSS GLYCOLIC ACID

Szampon Gudlox Gloss z kwasem glikolowym to pierwszy krok w codziennej pielęgnacji, który oczyszcza skórę głowy i włosy, jednocześnie wygładzając ich powierzchnię i nadając lustrowy blask. Formuła delikatnie usuwa zanieczyszczenia bez obciążania włosów, pozostawiając je lekkimi, miękkimi i pełnymi blasku.

Korzyści:

- Intensywne oczyszczenie skóry głowy i włosów bez naruszenia bariery ochronnej, co redukuje efekt obciążenia.

- Wygładzenie łusek włosowych prowadzące do mniejszego puszenia i wyraźnego połysku.

- Nawilżenie i odżywienie od nasady, które przekłada się na zdrowszy wygląd włosów i łatwiejszą stylizację.

Składniki aktywne:

Kwas glikolowy — delikatnie eksfoliuje powierzchnię włosa i skóry głowy, wygładza łuski i zwiększa połysk.

Pozostałe składniki pielęgnujące formuły mają na celu nawilżenie i ochronę przed przesuszeniem, co utrzymuje świeżość fryzury przez dłużej.

Dla kogo:

Idealny dla włosów matowych, szorstkich i puszących się, które potrzebują wygładzenia i natychmiastowego nabłyszczenia; odpowiedni do codziennego stosowania przez osoby szukające efektu „gloss” bez obciążenia.

Rezultaty przy regularnym stosowaniu:

- Bardziej gładka powierzchnia włosa; mniej puszenia i większy połysk po kilku myciach.

- Zdrowszy wygląd skóry głowy dzięki efektywnemu oczyszczeniu; włosy łatwiej się układają i dłużej zachowują świeżość.

Sposób użycia:

- Zwilżyć włosy.

- Niewielką ilość szamponu wmasować w skórę głowy do momentu powstania piany.

- Rozprowadzić po długości włosów, spłukać dokładnie.

- W razie potrzeby powtórzyć. Dla najlepszego efektu stosować z odżywką z tej samej linii.

Skład:

Aqua, Sodium C14-16 Olefin Sulfonate, Cocamidopropyl Betaine, Sodium Chloride, Cocamide MEA, Glycol Stearate, Dimethicone, Sodium Benzoate, Guar  Hydroxypropyltrimonium Chloride, Parfum, Hydraxypropyl Methylcellulose, Dimethiconol, Disodium EDTA, Potassium Sorbate, Glycolic Acid, Citric Acid, Tocopheryl Acetate (Vitamin E), Argania Spinosa Kernel Oil, Hexyl Cinnamal, Limonene, Linalool.